WAFER HOLDING ROBOT END EFFECTER VERTICAL POSITION DETERMINATION IN ION IMPLANTER SYSTEM

A wafer handling robot, ion implanter system including a wafer handling robot and a related method are disclosed. An ion implanter system may include an ion implanting station including a load lock coupled thereto; a wafer handling robot located at least partially within the load lock, the wafer handling robot including an end effecter for handling at least one wafer, and a motor for moving the end effecter vertically; and a sensor positioned within the load lock to determine a vertical position of the end effecter. L'invention concerne un système implanteur d'ion d'un robot manipulant des plaquettes, comprenant un robot manipulant des plaquettes et un procédé apparenté. Un système implanteur d'ion peut inclure une station d'implantation d'ion comprenant un verrou de charge couplé dans celle-ci ; un robot manipulant des plaquettes situé au moins partiellement dans le verrou de charge, le robot de manipulation de plaquettes comprenant un effecteur d'extrémité pour manipuler au moins une plaquette, et un moteur pour déplacer l'effecteur d'extrémité verticalement ; et un capteur positionné dans le verrou de charge afin de déterminer une position verticale de l'effecteur d'extrémité.