RADIATION CURABLE AQUEOUS COMPOSITION FOR LOW GLOSS COATINGS

A radiation curable aqueous coating composition having a 85° gloss of = 60 upon drying comprising (A) 10 to 99 wt % of a polyurethane, (B) 1 to 90 wt% of a radiation curable component; (C) 0.1 to 10 wt% of an associative thickener; wherein at least 80 wt% of (A) + (B) + (C) has a particle size great...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHOONDERMARK, MARIO, CORNELIS, TENNEBROEK, ROLAND, DE KOK, PAUL, VAN CASTEREN, ILSE
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS CHEMISTRY COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS COMPOSITIONS BASED THEREON COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS CORRECTING FLUIDS DYES FILLING PASTES INKS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PAINTS PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING POLISHES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF MATERIALS THEREFOR WOODSTAINS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A radiation curable aqueous coating composition having a 85° gloss of = 60 upon drying comprising (A) 10 to 99 wt % of a polyurethane, (B) 1 to 90 wt% of a radiation curable component; (C) 0.1 to 10 wt% of an associative thickener; wherein at least 80 wt% of (A) + (B) + (C) has a particle size greater than 500 nm and wherein the C=C bond concentration of the composition is 0.2 to 5.0 mmol per g of (A) + (B) + (C). L'invention concerne une composition de revêtement à faible brillance présentant une brillance à 85° = 60 après séchage. Ladite composition comprend : (A) 10 à 99 % en poids d'un polyuréthanne; (B) 1 à 90 % en poids d'un composant durcissable par rayonnement; (C) 0,1 à 10 % en poids d'un agent épaississant associatif. Dans ladite composition, au moins 80 % en poids d'une quantité formée par (A) + (B) + (C) présente une taille particulaire supérieure à 500 nm; et la concentration en liaison C=C de la composition est comprise entre 0,2 et 5,0 mmol par g de (A) + (B) + (C).