METHOD FOR PRODUCING FACET MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

The invention relates to methods for producing mirrors, in particular facet mirrors, and projection exposure apparatuses equipped with the mirrors according to the invention. La présente invention concerne des procédés de production de miroirs, en particulier de miroirs à facettes, ainsi que des app...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	WIESNER, STEFAN, BURKART, STEFAN, CHUNG, HIN YIU ANTHONY, DENGEL, GUENTHER, RENNON, SIGFRIED, BAIER, JUERGEN, ENKISCH, HARTMUT, KOUROUKLIS, CHRISTOS, WARM, BERNDT, DINGER, UDO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The invention relates to methods for producing mirrors, in particular facet mirrors, and projection exposure apparatuses equipped with the mirrors according to the invention. La présente invention concerne des procédés de production de miroirs, en particulier de miroirs à facettes, ainsi que des appareils d'exposition par projection qui sont équipés de tels miroirs.