A CHUCK AND A METHOD FOR SUPPORTING AN OBJECT

A chuck that includes a supporting element that is connected to a closing element. An upper surface of the supporting element includes a chemically etched zone and an un-etched zone. The chemically etched zone includes multiple upper areas that are surrounded by trenches. At least one pressurized gas conduit is formed in the supporting element so as to enable pressurized gas provided to a lower surface of the supporting element to propagate through the trenches. The un-etched zone is shaped in response to a shape of an object to be placed on the supporting element. The un-etched zone reduces pressurized gas leakage from the un-etched zone and the closing element reduces pressurized gas leakage from a lower surface of the supporting element when the object is placed on the chuck in alignment with the un-etched zone and pressurized gas is provided to the chuck. Le mandrin selon l'invention comprend un élément de support qui est relié à un élément de fermeture. Une surface supérieure de l'élément de support inclut une zone chimiquement attaquée et une zone non attaquée. La zone chimiquement attaquée inclut de multiples zones supérieures qui sont entourées par des tranchées. Au moins une conduite de gaz sous pression est formée dans l'élément de support de manière à permettre au gaz sous pression amené jusqu'à une surface inférieure de l'élément de support de se propager à travers les tranchées. La zone non attaquée est formée de manière à correspondre à la forme d'un objet devant être placé sur l'élément de support. La zone non attaquée réduit les fuites de gaz sous pression à partir de la zone non attaquée et l'élément de fermeture réduit les fuites de gaz sous pression à partir d'une surface inférieure de l'élément de support lorsque l'objet est placé sur le mandrin de façon à être aligné avec la zone non attaquée et le gaz sous pression est amené jusqu'au mandrin.