METHOD AND SYSTEM FOR DETERMINING A CRITICAL DIMENSION OF AN OBJECT

The present invention includes systems and method of measuring a critical dimension of an object. The system of the present invention includes a multiwavelength interferometric imaging system having an image receiver that is adapted to receive reflected light and calculate a critical dimension of an object in response thereto. The system can also include a gage block defining a known dimension that is disposed at a predetermined distance from the multiwavelength interferometric imaging system. The gage block can define a surface that at least partially reflects incident light, and can be adapted to hold the object in a predetermined position during an imaging operation. During the imaging operation at least a portion of the light incident on the image receiver is reflected from the gage block, thereby allowing the image receiver to calculate a critical dimension of the object in response to the received image. La présente invention concerne des systèmes et un procédé de mesure de la dimension critique d'un objet. Le système de la présente invention comporte un système d'imagerie interférométrique multi-longueur d'onde pourvu d'un récepteur d'image conçu pour recevoir une lumière réfléchie en réponse de laquelle la dimension critique d'un objet est calculée. Le système peut également comporter une cale étalon définissant une dimension connue disposée à une distance prédéterminée du système d'imagerie interférométrique multi-longueur d'onde. La cale étalon peut définir une surface qui réfléchit au moins partiellement la lumière incidente et peut être conçue pour maintenir l'objet dans une position prédéterminée pendant l'opération d'imagerie. Pendant l'opération d'imagerie, au moins une partie de la lumière incidente sur le récepteur d'image est réfléchie de la cale étalon, permettant ainsi au récepteur d'image de calculer la dimension critique de l'objet en réponse à l'image reçue.