EUV PELLICLE WITH INCREASED EUV LIGHT TRANSMITTANCE

According to one exemplary embodiment, an extreme ultraviolet (EUV) pellicle (106) for protecting a lithographic mask (104) includes an aerogel film (122). The pellicle further includes a frame (124) for mounting the aerogel film over the lithographic mask. The aerogel film causes the pellicle to ha...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	RYOUNG-HAN, KIM, WOOD, OBERT, REEVES, II, WALLOW, THOMAS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	According to one exemplary embodiment, an extreme ultraviolet (EUV) pellicle (106) for protecting a lithographic mask (104) includes an aerogel film (122). The pellicle further includes a frame (124) for mounting the aerogel film over the lithographic mask. The aerogel film causes the pellicle to have increased EUV light transmittance. Selon un mode de réalisation fourni à titre d'exemple de la présente invention, une pellicule EUV (à rayons ultraviolets extrêmes) (106) destinée à protéger un masque lithographique (104) comprend une couche mince d'aérogel (122). La pellicule comprend par ailleurs un cadre (124) pour le montage de la couche mince d'aérogel sur le masque lithographique. Grâce à la couche mince d'aérogel, la pellicule est dotée d'une capacité de transmission de lumière améliorée dans l'ultraviolet extrême (EUV).