METHOD FOR DETERMINATION OF RESIDUAL ERRORS

There is provided a method for determining residual errors, comprising the following steps: in a first step, a test plate comprising a first pattern is used, and in a second step, a test plate comprising a second pattern which is reflected and/or rotated with respect to the first step is used. La pr...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHELLHORN, UWE, MANGER, MATTHIAS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	There is provided a method for determining residual errors, comprising the following steps: in a first step, a test plate comprising a first pattern is used, and in a second step, a test plate comprising a second pattern which is reflected and/or rotated with respect to the first step is used. La présente invention concerne un procédé de détermination d'erreurs résiduelles, comprenant les étapes suivantes : une première étape consistant à utiliser une première plaque d'essai comprenant un premier motif, et une seconde étape consistant à utiliser une seconde plaque d'essai comprenant un second motif obtenu par réflexion et/ou rotation du motif de la première étape.