DEPOSITION ANALYSIS FOR ROBOT MOTION CORRECTION

A center (410) of the deposited material (324) may be offset from a center (400) of the substrate (322). Measuring the offset between the centers (400, 410), may be utilized to correct the position of the substrate (322) on the pedestal (300) so that the deposited material (342) is concentrically deposited on the substrate (322). La présente invention concerne des procédés de correction du mouvement d'un robot. Dans un mode de réalisation, un procédé de correction du mouvement d'un robot comporte les étapes consistant à transférer un premier substrat supporté par un robot jusqu'à une position de traitement à l'aide d'une procédure de mouvement robotique, à déposer un matériau sur le premier substrat dans la position de traitement, à déterminer un décalage entre un centre du matériau déposé et un centre du premier substrat, à ajuster la procédure de mouvement robotique afin de compenser le décalage. Dans un autre mode de réalisation, une chambre de traitement est aménagée et configurée de façon à obtenir des échantillons à partir desquels le mouvement d'un robot qui y est exploité peut être corrigé afin d'améliorer le positionnement du substrat sur un support de substrat par l'analyse du matériau déposé sur le substrat.