LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

A lithographic apparatus is disclosed that includes a support (MT) constructed to support a patterning device (MA), the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam and a substrate table (WT) constructed to hold a substrate (W). Further, the lithographic apparatus includes a projection system (PS) configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, the projection system being mounted to a reference element (MF) of the lithographic apparatus by a resilient mount (SM) to reduce a transfer of high frequency vibration from the reference element to the projection system and a control system (CON) to counteract a position error of the substrate table (WT) and the support (MT) relative to the projection system. La présente invention concerne un appareil lithographique qui inclut un support (MT) construit pour supporter un dispositif de formation de motifs (MA), ce même dispositif de formation de motifs étant en mesure de transmettre un faisceau de rayonnement avec un motif dans sa section transversale afin de former un faisceau de rayonnement à motif et une table de substrat (WT) construite pour maintenir un substrat (W). En outre, l'appareil lithographique inclut un système de projection (PS) configuré pour projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une partie cible du substrat, le système de projection étant monté sur un élément de référence (MF) de l'appareil lithographique par un montage élastique (SM) afin de réduire un transfert de vibration à haute fréquence à partir de l'élément de référence vers le système de projection et un système de commande (CON) afin de contrebalancer une erreur de position de la table de substrat (WT) et du support (MT) par rapport au système de projection.