PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE

A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from th...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHWAER, JOCHEN, RIEF, KLAUS, SCHOEPPACH, ARMIN, HOEGELE, ARTUR, BERTELE, ANDREAS, FROMMEYER, ANDREAS, SCHWAER, BAERBEL, BECKENBACH, MARIELLA, SIGEL, BENJAMIN, BLEIDISTEL, SASCHA, GRUNER, TORALF, SCHLETTERER, THOMAS, HUMMEL, WOLFGANG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42). L'invention concerne un objectif de projection pour microlithographie comprenant une pluralité de lentilles (32, 34, 36, 38, 42) qui possèdent chacune un axe optique local (40), un premier manipulateur (60) avec un premier actionneur (46, 72) et au moins un second actionneur (48, 74) affecté à au moins une première lentille (42) de la pluralité de lentilles (32, 34, 36, 38). Une première application de force et/ou application de couple peut être réalisée par le premier actionneur (46, 72) et une seconde application de force et/ou application de couple peut être réalisée par le second actionneur (48, 74), la première application de force et/ou application de couple et la seconde application de force et/ou application de couple étant différentes en ce qui concerne au moins l'un des paramètres suivants : intensité de l'application de force et/ou application de couple, direction de l'application de force par rapport à l'axe optique local (40), direction de l'application de couple par rapport à une périphérie de la première lentille (42).