PARTICLE BEAM PROCESS FOR THE ALIGNMENT OF REACTIVE MESOGENS

The invention relates to a method of aligning reactive mesogens (RM) on a substrate subjected to particle beam treatment, to RM's oriented by said method, especially in form of thin layers, to oriented polymers and polymer films obtained from such oriented RM's and RM layers, and to the us...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: YAROSHCHUK, OLEG, SKJONNEMAND, KARL, MAY, ALISON, LINDA, PARRI, OWAIN, LLYR, VAUGHAN-SPICKERS, JULIAN
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The invention relates to a method of aligning reactive mesogens (RM) on a substrate subjected to particle beam treatment, to RM's oriented by said method, especially in form of thin layers, to oriented polymers and polymer films obtained from such oriented RM's and RM layers, and to the use of the RM's, layers, polymers and films in optical, electronic and electrooptical applications. La présente invention concerne un procédé d'alignement de mésogènes radioactifs sur un substrat soumis à un traitement par faisceaux de particules, des mésogènes radioactifs orientés par ledit procédé, particulièrement sous forme de couches minces, des polymères orientés et de films polymères obtenus à partie de tels mésogènes radioactifs et de souches de mésogènes radioactifs, et l'utilisation des mésogènes radioactifs, des couches, des polymères et des films dans des applications électroniques et électro-optiques.