DEVICE FOR SUPPORTING SUBSTRATE

The present invention relates to a device for supporting a substrate which selectively and uniformly treats both the front surface of a substrate on which a pattern is formed and the back surface of a substrate on which a pattern is not formed. The device for supporting a substrate comprises a non-contact guide part supplying gas toward the substrate to float the substrate by a predetermined space, an elevation part supporting the non-contact guide part, the elevation part lifting up or down the non-contact guide part in a vertical direction, a contact guide part fixing the substrate on the upper part, the contact guide part being an annular shape to surround the non-contact guide part and being disposed concentrically with the non-contact guide part, and a rotation part supporting and rotating the contact guide part. The contact guide part supports the substrate when the non-contact guide part is positioned lower than the contact guide part, and the substrate floats above the non-contact guide part when the non-contact guide part is positioned higher than the contact guide part, and thus the front and back surface of the substrate can be selectively treated. La présente invention concerne un dispositif de support de substrat qui traite sélectivement et uniformément tout à la fois la surface avant d'un substrat sur lequel un motif est formé et la surface arrière d'un substrat sur laquelle aucun motif n'est formé. Le dispositif de support de substrat comprend une portion repère sans contact qui alimente le gaz vers le substrat pour faire flotter le substrat selon un espace prédéterminé, une portion d'élévation supportant cette portion repère, cette portion d'élévation soulevant et abaissant la portion guide sans contact dans un sens vertical, une portion repère à contact fixant le substrat sur la partie supérieure, cette portion étant de forme annulaire pour entourer la portion repère sans contact et être placée de manière concentrique par rapport à la portion repère sans contact, ainsi qu'une portion rotative qui supporte et qui fait tourner la portion repère à contact. La portion du repère à contact supporte le substrat lorsque la portion du repère sans contact est placée au-dessous de la portion du repère à contact et le substrat flotte au-dessus de la portion du repère sans contact lorsque cette portion est placée au-dessus de la portion du guide à contact, de sorte que la surface avant et arrière du substrat peuvent être traitées de manière sélective.