CORRECTION OF SPATIAL INSTABILITY OF AN EUV SOURCE BY LASER BEAM STEERING

A method to align a discharge axis of a discharge radiation source with respect to optics of the lithographic apparatus includes creating a discharge in a substance in a discharge space between an anode and a cathode to form a plasma so as to generate electromagnetic radiation. The discharge is triggered by irradiating an area on a surface proximate the discharge space with an energetic beam. The position of the area is controlled in response to a property of the radiation in the lithographic apparatus and/or the temperature of a collector of the lithographic apparatus. Controlling the position of the area which is irradiated improves alignment of the discharge axis with the different lithographic modules, such as the contamination barrier, the illumination system, the substrate table and/or the projection system. L'invention concerne un procédé permettant d'aligner un axe de décharge d'une source de rayonnements de décharge par rapport à un dispositif optique d'un appareil lithographique. Ce procédé consiste à créer une décharge dans une substance dans un espace de décharge situé entre une anode et une cathode afin de former un plasma pour générer un rayonnement électromagnétique. La décharge est déclenchée par émission de rayonnements sur une zone se trouvant sur une surface proche de l'espace de décharge avec un faisceau énergétique. La position de la zone est maîtrisée en réponse à une propriété du rayonnement dans l'appareil lithographique et/ou la température d'un collecteur dudit appareil. La maîtrise de la position de la zone qui reçoit les rayonnements permet d'améliorer l'alignement de l'axe de décharge avec les différents modules lithographiques, tels que la barrière de contamination, le système d'éclairage, la table de substrat et/ou le système de projection.