MODULAR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) REACTOR

The present invention provides an apparatus for processing semiconductor substrates. Particularly, the present invention provides a modular processing cell. The modular semiconductor processing cell of the present invention comprises a chamber (201) having an inject cap (213) and a gas panel module...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CARLSON, DAVID K, BURROWS, BRIAN H, METZNER, CRAIG R, AFZAL, IMRAN, ANDERSON, ROGER N, ISHIKAWA, DAVID MASAYUKI, COLLINS, RICHARD O, DEMARS, DENNIS L, CHACIN, JUAN M, MAGILL, KEITH M, CAMPBELL, JEFFREY
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention provides an apparatus for processing semiconductor substrates. Particularly, the present invention provides a modular processing cell. The modular semiconductor processing cell of the present invention comprises a chamber (201) having an inject cap (213) and a gas panel module (207) configured to supply one or more processing gases to the chamber through the inject cap, wherein the gas panel module is positioned adjacent the inject cap. The processing module further comprises a lamp module (203) positioned below the chamber. The lamp module comprises a plurality of vertically oriented lamps. Procédés et dispositifs de traitement de substrats à semi-conducteur. En particulier, cellule de traitement modulaire destinée à être utilisée dans un outil multifonction. Ladite cellule comprend une chambre à capsule d'injection, un module de panneau de gaz conçu pour fournir un ou plusieurs gaz de traitement à la chambre, à travers la capsule, et le module considéré est adjacent à la capsule. La cellule comprend aussi un module lampe placé sous la chambre. Le module lampe comprend plusieurs lampes orientées verticalement.