ELECTROCHEMICAL SENSING AND DATA ANALYSIS SYSTEM, APPARATUS AND METHOD FOR METAL PLATING

An electrochemical sensing and data analysis system (and apparatus and methods) adapted for control of electroplating of various metal(s) on a wafer or other suitable substrate. Components of the system utilize multi-variate analysis (MVA) and galvanostatic, potentiodynamic or other electrical measurements (or combinations thereof) to predict, adjust or control plating parameters, e.g., to achieve improved yield of plated substrates with acceptable levels of defects (or lack thereof). La présente invention concerne un système de détection électrochimique et d'analyse de données (un appareil et les procédés correspondants) conçu pour commander la galvanoplastie de divers métaux sur une tranche ou sur tout autre substrat approprié. Des constituants du système utilisent l'analyse à plusieurs variables et des mesures galvanoplastiques, potentiodynamiques ou d'autres mesures électriques (ou des combinaisons de ces dernières) pour prédire, ajuster ou commander les paramètres de galvanoplastie, par exemple, pour assurer un meilleur rendement de substrats recouverts présentant des niveaux acceptables de défauts (ou même aucun défaut).