REDUCED STRIAE LOW EXPANSION GLASS AND ELEMENTS, AND A METHOD FOR MAKING SAME
The invention is directed to a low expansion glass with reduced striae, the glass have a point to point variation in titania content is 0.1 wt% or less through its thickness and a CTE of 0 ± 3 ppb/°C throughout the temperature range 5-35 °C. The invention is further directed to a method for producin...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention is directed to a low expansion glass with reduced striae, the glass have a point to point variation in titania content is 0.1 wt% or less through its thickness and a CTE of 0 ± 3 ppb/°C throughout the temperature range 5-35 °C. The invention is further directed to a method for producing the low expansion glass by using a method in which the time for repetition of the oscillation patterns used in the process are 10 minutes or less. In addition, the low expansion glass of the invention can have striae further reduced by heat treating the glass at temperatures above 1600 °C for a time in the range of 48 160 hours. The invention is also directed to optical elements suitable for extreme ultraviolet lithography, which elements are made of a titania-containing silica glass having a titania content in the range of 5-10 wt.%, a polished and shaped surface have a peak to valley roughness of less than 10 nm, an average variation in titania content of less than ± 0.1 wt. % as measured through the vertical thickness of the glass and a coefficient of thermal expansion of 0 ± 3 ppb/°C throughout the temperature range 5 35 °C.
L'invention concerne un verre de faible dilatation aux stries réduites, le verre ayant une variation point à point de teneur en dioxyde de titane inférieure ou égale à 0,1 % en poids dans son épaisseur et un CTE de 0 ± 3 ppb/°C sur toute la fourchette de température 5-35 °C. L'invention concerne en outre un procédé de fabrication du verre de faible dilatation en utilisant un procédé dans lequel le temps de répétition des motifs d'oscillation utilisés dans le processus est inférieur ou égal à 10 minutes. En outre, le verre de faible dilatation de l'invention peut présenter des stries encore réduites par traitement thermique du verre à des températures supérieures à 1600 °C sur une période dans la fourchette de 48 à 160 heures. L'invention concerne également des éléments optiques convenant à une lithographie ultraviolette extrême, lesquels éléments sont constitués d'un verre de silice contenant du dioxyde de titane présentant une teneur en dioxyde de titane dans la fourchette de 5-10% en poids, une surface polie et conformée avec une rugosité pic/vallée inférieure à 10 nm, une variation moyenne de teneur en dioxyde de titane inférieure à ± 0,1 % en poids mesurée à travers l'épaisseur verticale du verre et un coefficient de dilatation thermique de 0 ± 3 ppb/°C sur toute la fourchette de température de 5 à 35°C. |
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