LITHOGRAPHIC APPARATUS AND PATTERNING DEVICE

A mask for a lithographic apparatus is disclosed, the mask having a patterned region bearing a pattern to be transferred onto a substrate and a border surrounding the patterned region, wherein at least part of the border has a plurality of elements, the dimensions of the elements being such that, during use, they would not be resolved at the substrate. Also, a lithographic apparatus is disclosed, the apparatus having a projection system, a substrate table arranged to hold a substrate, and a patterning device having a patterned region which bears a pattern to be transferred using a radiation beam via the projection system onto the substrate, at least part of a border surrounding the patterned region comprising a plurality of elements arranged to direct radiation onto the substrate, the dimensions of the elements such that, during use, they are not resolved at the substrate. La présente invention concerne un masque destiné à un appareil lithographique. Ledit masque possède une zone de motifs portant un motif à transférer sur un substrat et une bordure entourant la zone de motifs. Une partie au moins de la bordure comprend une pluralité d'éléments dont les dimensions sont telles que, lors de l'utilisation, ils ne peuvent subir de résolution sur le substrat. L'invention porte aussi sur un appareil lithographique qui comprend un système de projection, une table de substrat montée de manière à maintenir un substrat et un dispositif de formation de motifs pourvu d'une zone de motifs portant un motif à transférer par émission d'un faisceau de rayonnement sur le substrat à l'aide du système de projection. Une partie au moins d'une bordure entourant la zone de motifs présente une pluralité d'éléments disposés de manière à diriger le rayonnement sur le substrat, les dimensions des éléments étant telles que, au cours de l'utilisation, ils ne peuvent pas subir de résolution sur le substrat.