A METHOD FOR LASER TREATMENT OF IMPLANTABLE DEVICES, IMPLANTABLE DEVICES OBTAINED USING SAID METHOD, AND A LASER SYSTEM FOR TREATMENT OF IMPLANTABLE DEVICES
Method for the laser treatment of implantable devices comprising the step of treating a surface of the implantable device (1) via a diode-pumped solid-state laser (DPSS) in Q-switch regime for creating on the device itself a surface morphology comprising a controlled distribution of pores (5) having...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Method for the laser treatment of implantable devices comprising the step of treating a surface of the implantable device (1) via a diode-pumped solid-state laser (DPSS) in Q-switch regime for creating on the device itself a surface morphology comprising a controlled distribution of pores (5) having a diameter and depth of between 3 and 150 µm and preferably 5-20 µm, and a pitch of between 5 and 300 µm and preferably between 10 and 30 µm.
La présente invention concerne un procédé pour le traitement au laser de dispositifs implantables comprenant l'étape consistant à traiter une surface du dispositif implantable (1) par le biais d'un laser à solide à pompage par diode (DPSS) dans un régime de laser déclenché afin de créer sur le dispositif même une morphologie de surface comprenant une distribution contrôlée de pores (5) ayant un diamètre et une profondeur entre 3 et 150 µm et préférablement de 5 à 20 µm, et un pas entre 5 et 300 µm et préférablement entre 10 et 30 µm. |
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