THERMAL SPRAYING METHOD USING A COLLOIDAL SUSPENSION

Die Erfindung betrifft ein thermisches Beschichtungsverfahren, insbesondere ein Plasmaspritzverfahren, zum Beschichten eines Substrats mit einem Leiter oder Halbleiter, insbesondere mit Titandioxid, unter Verwendung einer Kolloiddispersion, einem photovoltaischen Schichtaufbau sowie dessen Herstellu...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ALFARO, JOSE, MANUEL, SERRA DR, GARCIA-GOMEZ, HERMENGILDO, DR, STOEVER, DETLEV, DR, CORMA-CANOS, AVELINO, DR, ATIENZAR-CORVILLO, PEDRO, HANSCH, RALF, VASSEN, ROBERT, SIEGERT, ROBERTO
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft ein thermisches Beschichtungsverfahren, insbesondere ein Plasmaspritzverfahren, zum Beschichten eines Substrats mit einem Leiter oder Halbleiter, insbesondere mit Titandioxid, unter Verwendung einer Kolloiddispersion, einem photovoltaischen Schichtaufbau sowie dessen Herstellung. The invention relates to a thermal coating method, especially a plasma spraying method, for coating a substrate with a conductor or a semiconductor, especially with titanium dioxide, using a colloid dispersion. The invention also relates to a photovoltaic layer structure and to the use thereof. L'invention concerne un procédé d'application thermique de revêtement, en particulier un procédé de pulvérisation de plasma, conçu pour appliquer, sur un substrat, un conducteur ou un semi-conducteur, en particulier de l'oxyde de titane, au moyen d'une dispersion colloïdale. Cette invention concerne également une structure en couches photovoltaïque, ainsi que sa production.