SYSTEMS AND METHODS FOR INSPECTING A WAFER WITH INCREASED SENSITIVITY

Systems and methods for inspecting a wafer with increased sensitivity are provided. One system includes an inspection subsystem configured to direct light to a spot on the wafer and to generate output signals responsive to light scattered from the spot on the wafer. The system also includes a gas flow subsystem configured to replace a gas located proximate to the spot on the wafer with a medium that scatters less of the light than the gas thereby increasing the sensitivity of the system. In addition, the system includes a processor configured to detect defects on the wafer using the output signals. La présente invention concerne des systèmes et procédés d'inspection d'une galette de plus grande sensibilité. Un système comprend un sous-système d'inspection configuré pour diriger la lumière vers un point de la galette et pour produire des signaux de sortie sensibles à la lumière diffusée à partir du point sur la galette. Le système comprend également un sous-système d'écoulement de gaz configuré pour remplacer un gaz situé à proximité du point sur la galette par un milieu qui diffuse moins de lumière que le gaz, augmentant de ce fait la sensibilité du système. En outre, le système comprend un processeur configuré pour détecter les défauts de la galette en utilisant les signaux de sortie.