APPARATUS FOR AN OPTIMIZED PLASMA CHAMBER GROUNDED ELECTRODE ASSEMBLY

An electrode assembly configured to provide a ground path for a plasma processing chamber of a plasma processing system is disclosed. The apparatus includes an electrode configured to be exposed to a plasma. The apparatus also includes a heater plate disposed above the electrode, wherein the heater plate is configured to heat the electrode. The apparatus further includes a cooling plate disposed above the heater plate, wherein the cooling plate is configured to cool the electrode. The apparatus also includes a plasma chamber lid configured to confine the plasma in the plasma chamber, wherein the plasma chamber lid includes a ground. The apparatus further includes a clamp ring configured to secure the electrode, the heater plate, and the cooling plate to the plasma chamber lid, the clamp ring is further configured to provide the ground path from the electrode to the chamber lid. L'invention concerne un ensemble électrode configuré pour constituer un circuit de masse pour une chambre de traitement au plasma d'un système de traitement au plasma. L'appareil comporte une électrode configurée pour exposition à un plasma. L'appareil comporte également une plaque chauffante disposée au-dessus de l'électrode, la plaque chauffante étant configurée pour chauffer l'électrode. L'appareil comporte également une plaque de refroidissement disposée au-dessus de la plaque chauffante, la plaque de refroidissement étant configurée pour refroidir l'électrode. L'appareil comporte également un couvercle de chambre à plasma configuré pour confiner le plasma dans la chambre à plasma, le couvercle de la chambre à plasma contenant une masse. L'appareil comporte en outre une bague de serrage configurée pour fixer l'électrode, la plaque chauffante et la plaque de refroidissement au couvercle de la chambre à plasma, la bague de serrage est configurée en outre pour constituer le circuit de masse entre l'électrode et le couvercle de chambre.