ELECTROSTATIC DEFLECTION SYSTEM WITH LOW ABERRATIONS AND VERTICAL BEAM INCIDENCE

Embodiments of the present invention may be utilized to improve electron beam deflection. One embodiment provides an electrostatic deflection system with electrodes that minimize aberrations and to achieve vertical incidence simultaneously. By using at least two stages of deflection for a deflection direction, the present invention allows the deflected electron beam to pass a back focal plane of an objective lens while deflection capacitors are not disposed across the back focal plane. As a result, deflection electrodes can have an angle of 120° to minimize aberrations and simultaneously achieve vertical incidence of the electron beam on a target to avoid distortions or changes in magnification with height variations of the target or focus variations. Les formes de réalisation de l'invention permettent d'améliorer la déviation d'un faisceau électronique. Une forme de réalisation concerne un système de déviation électrostatique qui comporte des électrodes réduisant au minimum les aberrations, et permet en même temps d'obtenir une incidence verticale. A l'aide d'au moins deux étages de déviation pour une direction de déviation, l'invention permet au faisceau d'électrons dévié de passer par le plan focal arrière d'un objectif alors que ledit plan focal est dépourvu de condensateurs de déviation. Par conséquent, les électrodes de déviation peuvent présenter un angle de 120° pour réduire les aberrations et permettre en même temps d'obtenir une incidence verticale du faisceau d'électrons sur une cible, de manière à éviter des distorsions ou des modifications de grossissement lors de variations en hauteur de la cible ou de variations de mise au point.