METHOD OF MAKING AN INTEGRATED CIRCUIT

A method is provided for making an integrated circuit (IC). Cell (200) representing a layout of a set of features, is divided into at least a first region (250) and a second region (240). Optical Proximity Correction (OPC) is carried out on at least the first region of cell (200). One or more instan...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PATTERSON, KYLE, BOONE, ROBERT, E, WIMMER, KARL, LUCAS, KEVIN, D
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method is provided for making an integrated circuit (IC). Cell (200) representing a layout of a set of features, is divided into at least a first region (250) and a second region (240). Optical Proximity Correction (OPC) is carried out on at least the first region of cell (200). One or more instances of cell (200) are located to define IC prior to carrying out final OPC optimisation on the second regions (240) of each cell (200) in the defined IC. La présente invention a trait à un procédé de fabrication d'un circuit intégré. Une cellule (200) représentant un schéma d'un ensemble d'éléments, est divisée en au moins une première zone (250) et une deuxième zone (240). Une correction de proximité optique est effectuée sur au moins la première zone de la cellule (200). Une ou plusieurs instances de cellule (200) sont repérées en vue de définir un circuit intégré préalablement à la réalisation de l'optimisation finale de correction de proximité optique sur les deuxième zones (240) de chaque cellule dans le circuit intégré défini.