VACUUM REACTION CHAMBER WITH X-LAMP HEATER
Methods and apparatus for electron beam treatment of a substrate are provided. An electron beam apparatus that includes a vacuum chamber, at least one thermocouple assembly in communication with the vacuum chamber, a heating device in communication with the vacuum chamber, and combinations thereof a...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Methods and apparatus for electron beam treatment of a substrate are provided. An electron beam apparatus that includes a vacuum chamber, at least one thermocouple assembly in communication with the vacuum chamber, a heating device in communication with the vacuum chamber, and combinations thereof are provided. In one embodiment, the vacuum chamber comprises an electron source wherein the electron source comprises a cathode connected to a high voltage source, an anode connected to a low voltage source, and a substrate support. In another embodiment, the vacuum chamber comprises a grid located between the anode and the substrate support. In one embodiment the heating device comprises a first parallel light array and a second light array positioned such that the first parallel light array and the second light array intersect. In one embodiment the thermocouple assembly comprises a temperature sensor made of aluminum nitride.
L'invention porte sur des procédés et un appareil destinés au traitement par faisceau électronique d'un substrat. L'invention concerne un appareil à faisceau électronique qui comprend une chambre à vide, au moins un ensemble thermocouple en communication avec la chambre à vide, un dispositif chauffant en communication avec la chambre à vide, et des combinaisons des éléments précités. Dans un mode de réalisation, la chambre à vide comprend une source d'électrons, laquelle source d'électrons comprend une cathode reliée à une source à haute tension, une anode reliée à une source à basse tension, et un support de substrat. Dans un autre mode de réalisation, la chambre à vide comprend une grille située entre l'anode et le support de substrat. Dans un mode de réalisation, le dispositif chauffant comprend une première configuration lumineuse parallèle et une seconde configuration lumineuse placée de telle manière que la première configuration lumineuse parallèle et la seconde configuration lumineuse se croisent. Dans un mode de réalisation, l'ensemble thermocouple comprend un capteur de température fabriqué en nitrure d'aluminium. |
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