SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
A semiconductor device is provided with a groove section (11) formed on a semiconductor substrate (10); first ONO films (18) arranged on both side planes of the groove section (11); and first word lines (22) arranged on side planes of the first ONO films (18) and extend in the longitudinal direction...
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Hauptverfasser: | , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
Schlagworte: | |
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