METHOD FOR MAKING A THIN FILM LAYER

A method of making a patterned layer comprises directing a beam of vaporized material toward a reflector such that the beam of vaporized material impinges an impingement surface of the reflector and is redirected from the reflector through one or more apertures in a shadow mask and onto a deposition...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HEMMESCH, ERIC, W, BAUDE, PAUL, F, HAASE, MICHAEL A
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method of making a patterned layer comprises directing a beam of vaporized material toward a reflector such that the beam of vaporized material impinges an impingement surface of the reflector and is redirected from the reflector through one or more apertures in a shadow mask and onto a deposition substrate to form a patterned material layer. Selon la présente invention, un procédé de conception d'une couche à motifs consiste à diriger un faisceau de matière vaporisée en direction d'un réflecteur, de telle manière que ledit faisceau converge vers une surface d'impact du réflecteur et qu'il est dirigé à nouveau du réflecteur à travers au moins une ouverture dans un masque perforé et sur une surface de dépôt afin de former une couche de matière à motifs.