LOW VAPOR PRESSURE GAS SYSTEM
A system and apparatus (100) for manufacturing a low vapor pressure vapor stream lean in low volatility contaminants, and delivering same to a point of use. The system provides a transport vessel (10) having a liquid phase or two-phase fluid held therein. The liquid and/or two-phase is transferred f...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | BURGERS, KENNETH, LEROY PACE, KEITH, RANDALL TWOREK, JESSICA, ANNE CHAKRAVARTI, SHRIKAR BERGMAN, THOMAS, JOHN TIMM, MARTIN, LEE |
| description | A system and apparatus (100) for manufacturing a low vapor pressure vapor stream lean in low volatility contaminants, and delivering same to a point of use. The system provides a transport vessel (10) having a liquid phase or two-phase fluid held therein. The liquid and/or two-phase is transferred from said transport vessel (10) to a vaporization vessel (40) , wherein at least part of the liquid is vaporized. A liquid stream that is enriched in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (40) , and a stream that is lean in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (10) . The low vapor pressure stream is delivered to a point of use and the purity is maintained within a desired range .
L'invention concerne un système et un appareil (100) permettant de produire un flux de vapeur à faible pression de vapeur appauvri en contaminants à faible volatilité, et de distribuer celui-ci à un point d'utilisation. Le système de l'invention comprend une cuve de transport (10) dans laquelle est disposé un fluide en phase liquide ou biphasique. Le fluide en phase liquide et/ou biphasique est transféré de ladite cuve de transport (10) à une cuve de vaporisation (40), dans laquelle au moins une partie du liquide est vaporisée. Un flux liquide qui est enrichi en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40), et un flux appauvri en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40). Le flux à faible pression de vapeur est distribué à un point d'utilisation et la pureté est maintenue dans une plage désirée. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2007008900A2</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2007008900A2</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2007008900A23</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZJD18Q9XCHMM8A9SCAhyDQ4ODXJVcHcMVgiODA5x9eVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGBuYGBhaWBgaORsbEqQIAJh4iHQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>LOW VAPOR PRESSURE GAS SYSTEM</title><source>esp@cenet</source><creator>BURGERS, KENNETH, LEROY ; PACE, KEITH, RANDALL ; TWOREK, JESSICA, ANNE ; CHAKRAVARTI, SHRIKAR ; BERGMAN, THOMAS, JOHN ; TIMM, MARTIN, LEE</creator><creatorcontrib>BURGERS, KENNETH, LEROY ; PACE, KEITH, RANDALL ; TWOREK, JESSICA, ANNE ; CHAKRAVARTI, SHRIKAR ; BERGMAN, THOMAS, JOHN ; TIMM, MARTIN, LEE</creatorcontrib><description>A system and apparatus (100) for manufacturing a low vapor pressure vapor stream lean in low volatility contaminants, and delivering same to a point of use. The system provides a transport vessel (10) having a liquid phase or two-phase fluid held therein. The liquid and/or two-phase is transferred from said transport vessel (10) to a vaporization vessel (40) , wherein at least part of the liquid is vaporized. A liquid stream that is enriched in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (40) , and a stream that is lean in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (10) . The low vapor pressure stream is delivered to a point of use and the purity is maintained within a desired range .
L'invention concerne un système et un appareil (100) permettant de produire un flux de vapeur à faible pression de vapeur appauvri en contaminants à faible volatilité, et de distribuer celui-ci à un point d'utilisation. Le système de l'invention comprend une cuve de transport (10) dans laquelle est disposé un fluide en phase liquide ou biphasique. Le fluide en phase liquide et/ou biphasique est transféré de ladite cuve de transport (10) à une cuve de vaporisation (40), dans laquelle au moins une partie du liquide est vaporisée. Un flux liquide qui est enrichi en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40), et un flux appauvri en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40). Le flux à faible pression de vapeur est distribué à un point d'utilisation et la pureté est maintenue dans une plage désirée.</description><language>eng ; fre</language><subject>BLASTING ; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES ; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS ; HEATING ; LIGHTING ; MECHANICAL ENGINEERING ; STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS ; VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES ; WEAPONS</subject><creationdate>2007</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20070118&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2007008900A2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25555,76308</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20070118&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2007008900A2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BURGERS, KENNETH, LEROY</creatorcontrib><creatorcontrib>PACE, KEITH, RANDALL</creatorcontrib><creatorcontrib>TWOREK, JESSICA, ANNE</creatorcontrib><creatorcontrib>CHAKRAVARTI, SHRIKAR</creatorcontrib><creatorcontrib>BERGMAN, THOMAS, JOHN</creatorcontrib><creatorcontrib>TIMM, MARTIN, LEE</creatorcontrib><title>LOW VAPOR PRESSURE GAS SYSTEM</title><description>A system and apparatus (100) for manufacturing a low vapor pressure vapor stream lean in low volatility contaminants, and delivering same to a point of use. The system provides a transport vessel (10) having a liquid phase or two-phase fluid held therein. The liquid and/or two-phase is transferred from said transport vessel (10) to a vaporization vessel (40) , wherein at least part of the liquid is vaporized. A liquid stream that is enriched in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (40) , and a stream that is lean in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (10) . The low vapor pressure stream is delivered to a point of use and the purity is maintained within a desired range .
L'invention concerne un système et un appareil (100) permettant de produire un flux de vapeur à faible pression de vapeur appauvri en contaminants à faible volatilité, et de distribuer celui-ci à un point d'utilisation. Le système de l'invention comprend une cuve de transport (10) dans laquelle est disposé un fluide en phase liquide ou biphasique. Le fluide en phase liquide et/ou biphasique est transféré de ladite cuve de transport (10) à une cuve de vaporisation (40), dans laquelle au moins une partie du liquide est vaporisée. Un flux liquide qui est enrichi en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40), et un flux appauvri en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40). Le flux à faible pression de vapeur est distribué à un point d'utilisation et la pureté est maintenue dans une plage désirée.</description><subject>BLASTING</subject><subject>FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES</subject><subject>FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS</subject><subject>HEATING</subject><subject>LIGHTING</subject><subject>MECHANICAL ENGINEERING</subject><subject>STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS</subject><subject>VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES</subject><subject>WEAPONS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2007</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJD18Q9XCHMM8A9SCAhyDQ4ODXJVcHcMVgiODA5x9eVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGBuYGBhaWBgaORsbEqQIAJh4iHQ</recordid><startdate>20070118</startdate><enddate>20070118</enddate><creator>BURGERS, KENNETH, LEROY</creator><creator>PACE, KEITH, RANDALL</creator><creator>TWOREK, JESSICA, ANNE</creator><creator>CHAKRAVARTI, SHRIKAR</creator><creator>BERGMAN, THOMAS, JOHN</creator><creator>TIMM, MARTIN, LEE</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20070118</creationdate><title>LOW VAPOR PRESSURE GAS SYSTEM</title><author>BURGERS, KENNETH, LEROY ; PACE, KEITH, RANDALL ; TWOREK, JESSICA, ANNE ; CHAKRAVARTI, SHRIKAR ; BERGMAN, THOMAS, JOHN ; TIMM, MARTIN, LEE</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2007008900A23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2007</creationdate><topic>BLASTING</topic><topic>FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES</topic><topic>FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS</topic><topic>HEATING</topic><topic>LIGHTING</topic><topic>MECHANICAL ENGINEERING</topic><topic>STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS</topic><topic>VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES</topic><topic>WEAPONS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>BURGERS, KENNETH, LEROY</creatorcontrib><creatorcontrib>PACE, KEITH, RANDALL</creatorcontrib><creatorcontrib>TWOREK, JESSICA, ANNE</creatorcontrib><creatorcontrib>CHAKRAVARTI, SHRIKAR</creatorcontrib><creatorcontrib>BERGMAN, THOMAS, JOHN</creatorcontrib><creatorcontrib>TIMM, MARTIN, LEE</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>BURGERS, KENNETH, LEROY</au><au>PACE, KEITH, RANDALL</au><au>TWOREK, JESSICA, ANNE</au><au>CHAKRAVARTI, SHRIKAR</au><au>BERGMAN, THOMAS, JOHN</au><au>TIMM, MARTIN, LEE</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>LOW VAPOR PRESSURE GAS SYSTEM</title><date>2007-01-18</date><risdate>2007</risdate><abstract>A system and apparatus (100) for manufacturing a low vapor pressure vapor stream lean in low volatility contaminants, and delivering same to a point of use. The system provides a transport vessel (10) having a liquid phase or two-phase fluid held therein. The liquid and/or two-phase is transferred from said transport vessel (10) to a vaporization vessel (40) , wherein at least part of the liquid is vaporized. A liquid stream that is enriched in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (40) , and a stream that is lean in low volatility contaminants is withdrawn from the vaporization vessel (10) . The low vapor pressure stream is delivered to a point of use and the purity is maintained within a desired range .
L'invention concerne un système et un appareil (100) permettant de produire un flux de vapeur à faible pression de vapeur appauvri en contaminants à faible volatilité, et de distribuer celui-ci à un point d'utilisation. Le système de l'invention comprend une cuve de transport (10) dans laquelle est disposé un fluide en phase liquide ou biphasique. Le fluide en phase liquide et/ou biphasique est transféré de ladite cuve de transport (10) à une cuve de vaporisation (40), dans laquelle au moins une partie du liquide est vaporisée. Un flux liquide qui est enrichi en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40), et un flux appauvri en contaminants à faible volatilité est retiré de la cuve de vaporisation (40). Le flux à faible pression de vapeur est distribué à un point d'utilisation et la pureté est maintenue dans une plage désirée.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; fre |
| recordid | cdi_epo_espacenet_WO2007008900A2 |
| source | esp@cenet |
| subjects | BLASTING FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED,LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS HEATING LIGHTING MECHANICAL ENGINEERING STORING OF DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED ORSOLIDIFIED GASES WEAPONS |
| title | LOW VAPOR PRESSURE GAS SYSTEM |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-15T05%3A54%3A41IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=BURGERS,%20KENNETH,%20LEROY&rft.date=2007-01-18&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2007008900A2%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |