WORKPIECE HANDLING ALIGNMENT SYSTEM
Method and apparatus for use in setting up workpiece treatment or processing equipment. A disclosed system processes silicon wafers that are treated during processing steps in producing semiconductor integrated circuits. The processing equipment includes a wafer support that supports a wafer in a tr...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Method and apparatus for use in setting up workpiece treatment or processing equipment. A disclosed system processes silicon wafers that are treated during processing steps in producing semiconductor integrated circuits. The processing equipment includes a wafer support that supports a wafer in a treatment region during wafer processing. A housing provides a controlled environment within the housing interior for processing the wafer on the wafer support. A mechanical transfer system transports wafers to and from the support. A wafer simulator is used to simulate wafer movement and includes a pressure sensor for monitoring contact between the simulator and the wafer transfer and support equipment. In one illustrated embodiment the wafer simulator is generally circular and includes three equally spaced pressure sensors for monitoring contact with wafer transport and support equipment.
L'invention concerne un procédé et un appareil destinés à être utilisés dans le réglage d'un équipement de traitement de pièce à usiner. Un système selon l'invention permet de traiter des plaquettes de silicium qui sont traitées au cours d'étapes de traitement pour produire des circuits intégrés à semi-conducteurs. L'équipement de traitement comprend un support de plaquette qui supporte une plaquette dans une région de traitement au cours du traitement de plaquette. Un logement assure un environnement contrôlé à l'intérieur du boîtier pour le traitement de la plaquette sur le support de plaquette. Un système de transfert mécanique transporte des plaquettes en direction et à partir du support. Un simulateur de plaquette est utilisé pour simuler le déplacement d'une plaquette et comprend un capteur de pression destiné à surveiller le contact entre le simulateur et l'équipement de support et de transfert de plaquette. Dans un mode de réalisation, le simulateur de plaquette est généralement circulaire et comprend trois capteurs de pression espacés de manière égale, destinés à surveiller le contact avec l'équipement de support et de transfert de plaquette. |
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