DEPOSITION OF UNIFORM LAYER OF DESIRED MATERIAL

Deposition of a thin film on a surface comprising: (i) providing a continuous stream of amorphous solid particles of desired material suspended in at least one carrier gas at an average stream temperature below the Tg of the particles, (ii) passing the stream into a heating zone to elevate the average stream temperature to above the Tg of the particles, wherein no substantial chemical transformation of the material occurs due to heating, (iii) exhausting the heated stream through at least one distributing passage, at a rate substantially equal to its rate of addition to the heating zone, wherein the carrier gas does not undergo a thermodynamic phase change upon passage through heating zone and distribution passage, and (iv) exposing a receiver surface that is at a temperature below that of the heated stream to the exhausted flow of the heated stream, and depositing particles of the desired material. L'invention concerne le dépôt d'un film mince sur une surface qui consiste en ce qui suit: (i) fournir un courant continu de particules solides amorphes d'un matériau désiré suspendu dans au moins un gaz véhicule à une température de courant moyenne en dessous de Tg des particules, (ii) faire passer le courant dans une zone de réchauffement pour porter la température moyenne du courant en dessus de Tg des particules, lorsqu'aucune transformation chimique sensible du matériau ne se produit sous l'effet du réchauffement; (iii) épuiser le courant réchauffé via un passage de distribution, à un débit sensiblement égal à son débit d'ajout dans la zone de réchauffement, le gaz véhicule ne subissant aucun changement de phase thermodynamique après son passage par la zone de réchauffement et le passage de distribution, et (iv) exposer une surface de récepteur à une température inférieure à celle du courant chauffé à un flux épuisé du courant réchauffé, et déposer les particules de courant désiré.