METHOD OF FORMING A SHALLOW TRENCH ISOLATION STRUCTURE WITH REDUCED LEAKAGE CURRENT IN A SEMICONDUCTOR DEVICE

A method for fabricating a shallow trench isolation structure (94) for a subthreshold kink-free semiconductor memory device includes the steps of forming an oxide (62) -nitride (64) -oxide (66) -nitride (68) stack on top of a semiconductor substrate (60), etching shallow trenches (72) in selected areas and filling them with an insulating material (74) so that it is level with the top nitride layer (68), removing the top nitride layer, depositing a protective material (82) on top of a first device area (84), removing the top oxide layer {66) in a second device area (86), removing the protective material, removing the bottom nitride layer (64) in the second device area, performing an oxide etch to the whole device to remove the top oxide layer (66) in the first device area (84) and the bottom oxide layer (62) in the second device area (86), removing the bottom nitride layer (64) and the bottom oxide layer (62) in the first device area (84). L'invention concerne un procédé de fabrication d'une structure d'isolation pourvue de tranchées peu profondes (94) pour un dispositif mémoire semiconducteur exempt de plis de sous-seuil. Ce procédé consiste: à former une pile oxyde (62) - nitrure (64) - oxyde (66) - nitrure (68) sur un substrat semiconducteur (60); à graver des tranchées peu profondes (72) dans des zones déterminées et à les remplir au moyen d'un matériau isolant (74) jusqu'à atteindre le niveau de la couche de nitrure supérieure (68); à éliminer la couche de nitrure supérieure; à déposer un matériau de protection (82) sur une première zone de dispositif (84); à éliminer la couche d'oxyde supérieure (66) dans une deuxième zone de dispositif (86); à éliminer le matériau de protection; à éliminer la couche de nitrure inférieure (64) dans la deuxième zone de dispositif; à réaliser une attaque chimique d'oxyde sur l'intégralité du dispositif pour éliminer la couche d'oxyde supérieure (66) dans la première zone de dispositif (84) et la couche d'oxyde inférieure (62) dans la deuxième zone de dispositif (86); à éliminer la couche de nitrure inférieure (64) et la couche d'oxyde inférieure (62) dans la première zone de dispositif (84).