APPARATUS AND METHOD

Apparatus comprising a tool (2) for forming an aspherical surface on a material (14), and a support for supporting the material (12) for rotation about an axis, the arrangement being such that the tool (2) is restricted to movement with respect to the material (14) in two substantially linear axes transverse to each other. The apparatus may be a high-performance machine comprising a measuring arrangement (18) mounted so as to extend substantially across the surface of the material (14) and serving to measure the distance between the tool (2) and a referencing region (32) of the measuring arrangement (18) which can be in the form of a symmetrical metrology device (18), the metrology device being structurally unloaded. The apparatus is substantially symmetrical in two substantially vertical planes substantially perpendicular to and intersecting each other. L'invention concerne un appareil comprenant un outil (2) qui permet de former une surface asphérique sur un matériau (14) et un support destiné à supporter ledit matériau (12) et à le faire pivoter autour d'un axe, cet agencement se présentant de sorte que le déplacement de l'outil (2) est limité par rapport au matériau (14) selon deux axes sensiblement linéaires s'étendant transversalement l'un par rapport à l'autre. Ledit appareil peut être une machine haute performance comprenant un agencement de mesure (18) monté afin de s'étendre sensiblement sur la surface du matériau (14) et servant à mesurer la distance entre cet outil (2) et une région de référence (32) de l'agencement de mesure (18) qui peut se présenter sous forme d'un dispositif métrologique (18) symétrique, ce dispositif étant structurellement non chargé. Cet appareil est sensiblement symétrique dans deux plans sensiblement verticaux et perpendiculaires l'un à l'autre et se coupant.