A CENTRIFUGAL SEPARATOR

The invention refers to a centrifugal separator and a method of separating a product to a heavy phase and light phase. A centrifuge rotor (1 ) encloses a closed separation space (8), which has a radially outer part (11 ) for the heavy phase, a radially inner part (12) for the light phase and a central gas-filled space (13). The radially outer part is separated from the radially inner part by a interface layer level (14). An inlet (21 ) extends into the separation space (8) for feeding the product. A first outlet (22) extend from the radially outer part for discharge of the heavy phase. A second outlet (23) extends from the radially inner part (12) for discharge of the light phase. A control equipment permits control of the interface layer level to a desired radial position. A sensor (51 ) senses a parameter related to the gas pressure in the central space. The control equipment controls the counter pressure in the first outlet in response to the sensed parameter for controlling the interface layer level to the desired radial position. L'invention concerne un séparateur centrifuge et un procédé de séparation d'un produit en phase lourde et phase légère. Un rotor centrifuge (1) contient un espace de séparation fermé (8) et comprend une partie radiale extérieure (11) pour la phase lourde, une partie radiale intérieure (12) pour la phase légère et une partie centrale remplie de gaz (13). La partie radiale extérieure est séparée de la partie radiale intérieure par un niveau couche d'interface (14). Un orifice d'entrée (12) s'étend dans l'espace de séparation (8) pour permettre l'acheminement du produit. Un premier orifice de sortie (22) s'étend à partir de la partie radiale extérieure pour permettre l'évacuation de la phase lourde. Un deuxième orifice de sortie (23) s'étend à partir de la partie radiale intérieure (12) pour permettre l'évacuation de la phase légère. Un dispositif de commande permet de commander le niveau couche d'interface dans une position radiale désirée. Un capteur (51) détecte un paramètre associé à la pression du gaz dans l'espace central. Le dispositif de commande sert également à commander la contre-pression dans le premier orifice de sortie en réponse au paramètre détecté afin de commander le niveau couche d'interface dans la position radiale désirée.