METHOD FOR PREPARING NANOPARTICLES OF A METAL OR A METAL ALLOY, DISPERSED ON A SUBSTRATE, BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
The invention concerns a method for depositing nanoparticles of a metal or of an alloy of said metal, the metal being selected among the metals of columns VIIIB and IB of the periodic table, dispersed on a substrate, by chemical vapour deposition (CVD), from one or more precursors, wherein the depos...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention concerns a method for depositing nanoparticles of a metal or of an alloy of said metal, the metal being selected among the metals of columns VIIIB and IB of the periodic table, dispersed on a substrate, by chemical vapour deposition (CVD), from one or more precursors, wherein the deposition is carried out in the presence of a gas comprising over 50 vol. % of an oxidizing reactive gas. The invention also concerns a substrate comprising at least one surface whereon are dispersed nanoparticles of metal or metal alloy, for example, of silver or a silver alloy. The invention further concerns the use of the substrate for catalyzing a chemical reaction, for example a reaction for eliminating NOx.
Procédé de dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage dudit métal, le métal étant choisi parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB du tableau périodique, dispersées sur un substrat, par dépôt chimique en phase vapeur CVD, à partir d'un ou plusieurs précurseurs, dans lequel le dépôt est réalisé en présence d'un gaz comprenant plus de 50% en volume d'un gaz réactif oxydant. Substrat comprenant au moins une surface sur laquelle sont dispersées des nanoparticules de métal ou d'alliage de métaux, par exemple d'argent ou d'un alliage d'argent. Utilisation du substrat pour catalyser une réaction chimique, par exemple une réaction d'élimination des NOx. |
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