RESTRICTED RADIATED HEATING ASSEMBLY FOR HIGH TEMPERATURE PROCESSING

A vapor deposition reactor and associated method are disclosed that increase the lifetime and productivity of a filament-based resistive-heated vapor deposition system. The reactor and method provide for heating the filament while permitting the filament to move as it expands under the effect of increasing temperature while limiting the expanding movement of the filament to an amount that prevents the expanding movement of the filament from creating undesired contact with any portions of the reactor. Cette invention concerne un réacteur de dépôt en phase vapeur et un procédé correspondant permettant d'accroître la durée de vie et la productivité d'un système de dépôt en phase vapeur chauffé par effet Joule à filament. Le réacteur et le procédé associé assurent le chauffage du filament tout en lui permettant de se déplacer tandis qu'il se dilate sous l'effet de l'augmentation de la température et en limitant le mouvement de dilatation du filament à un stade qui empêche le mouvement de dilatation du filament d'entraîner un contact indésirable avec une partie quelconque du réacteur.