LITHOGRAPHY PROCESSES USING PHASE CHANGE COMPOSITIONS

A lithography method includes the steps of: A) filling a mold having a patterned surface with a phase change composition at a temperature above the phase change temperature of the phase change composition; B) hardening the phase change composition to form a patterned feature; C) separating the mold and the patterned feature; optionally D) etching the patterned feature; optionally E) cleaning the mold; and optionally F) repeating steps A) to D) reusing the mold. The PCC may include an organofunctional silicone wax. L'invention concerne un procédé lithographique qui consiste : A) à remplir un moule pourvu d'une surface ornée d'un motif comprenant une composition à changement de phase à une température dépassant la température de changement de phase de la composition à changement de phase ; B) à durcir la composition à changement de phase afin de former un élément orné d'un motif ; C) à séparer le moule et l'élément orné d'un motif ; éventuellement D) à graver l'élément orné d'un motif ; éventuellement E) à nettoyer le moule ; et éventuellement F) à répéter les étapes A) à D) en réutilisant le moule. La composition à changement de phase peut comprendre une cire au silicone organofonctionnelle