IMPRINT ALIGNMENT METHOD, SYSTEM, AND TEMPLATE

An improved lithographic alignment method, system, and template. The method includes creating, within a lithographic subfield, subsequent-layer features which are intentionally offset from their respective previous-layer features, where the intentional offset may vary in magnitude and direction from...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: VOISIN, RONALD D
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:An improved lithographic alignment method, system, and template. The method includes creating, within a lithographic subfield, subsequent-layer features which are intentionally offset from their respective previous-layer features, where the intentional offset may vary in magnitude and direction from one subfield to the next. The system includes an imprint lithographic machine and first and second lithography templates where the templates are adapted to enable the machine to form first and second features, respectively, and where a second feature is configured to be deliberately offset from a corresponding first feature. The template set includes at least two templates, one having features which are deliberately offset from corresponding features of another template. Also, a method of manufacturing such a template set. Procédé, système et gabarit d'alignement améliorés pour empreintes lithographiques. Le procédé consiste à créer, dans un sous-champ lithographique, des caractéristiques de couches suivantes qui sont intentionnellement déportées par rapport aux caractéristiques correspondantes de la couche précédente, ce décalage intentionnel pouvant varier en importance et en direction d'un sous-champ au sous-champ suivant. Le système fait intervenir une machine lithographique à empreintes ainsi que des premier et second gabarits de lithographies, lesquels gabarits sont conçus pour former des premières et secondes caractéristiques, respectivement, la seconde caractéristique étant intentionnellement déportée par rapport à la première caractéristique correspondante. Le jeu de gabarits comprend au moins deux gabarits, dont l'un présente des caractéristiques délibérément déportées par rapport aux caractéristiques correspondantes d'un autre gabarit. Est également décrit un procédé de fabrication d'un jeu de gabarits.