METHODS AND APPARATUS FOR OPTIMAL TEMPERATURE CONTROL IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM

A temperature control device (308) for controlling temperature of an upper chamber (312) of a plasma processing apparatus (300) is described. The temperature control device includes a thermally conductive body (334) having an inner surface and an outer surface removably connected with and in thermal...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: SHARPLESS, LEONARD, J, SALDANA, MIGUEL, A, DAUGHERTY, JOHN, E
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A temperature control device (308) for controlling temperature of an upper chamber (312) of a plasma processing apparatus (300) is described. The temperature control device includes a thermally conductive body (334) having an inner surface and an outer surface removably connected with and in thermal communication with the upper chamber of the plasma processing apparatus. The temperature control device also includes a plurality of thermal interface layers (344, 348, 350, 352) in thermal communication with the thermally conductive body wherein at least one layer is a heating element (350); and a cooling element (326) connected with the banded thermally conductive body and thermally coupled with the upper chamber of the plasma processing apparatus wherein the cooling element is configured to conduct a fluidic medium. The temperature control device further includes at least one temperature sensor for sensing temperature of the upper chamber, a temperature control unit for controlling the heating element and the cooling element; and a latching mechanism for securing the temperature control device to the upper chamber. L'invention concerne un dispositif de contrôle de la température permettant de contrôler la température d'une chambre supérieure d'un appareil de traitement au plasma. Le dispositif de contrôle de la température comprend un corps thermoconducteur muni d'une surface intérieure et d'une surface extérieure raccordées de façon amovible et en communication thermique avec la chambre supérieure de l'appareil de traitement au plasma. Le dispositif de contrôle de la température comprend également une pluralité de couches d'interface thermique en communication thermique avec le corps thermoconducteur, au moins l'une des couches étant un élément chauffant ; et un élément réfrigérant raccordé au corps thermoconducteur fretté et couplé thermiquement avec la chambre supérieure de l'appareil de traitement au plasma, l'élément réfrigérant étant conçu pour conduire un milieu fluide. Le dispositif de contrôle de la température comprend également au moins un capteur de température permettant de capter la température de la chambre supérieure de l'appareil de traitement au plasma ; une unité de contrôle de la température permettant de contrôler l'élément chauffant et l'élément réfrigérant ; et un mécanisme de verrouillage permettant de fixer le dispositif de contrôle de la température sur la chambre supérieure.