AQUEOUS RESIST STRIPPER COMPOSITION

Aqueous resist stripper composition capable of stripping a resist from a resist-coated substrate such as a color filter substrate or a TFT substrate is disclosed. The aqueous resist stripper composition according to the present invention includes 0.3 to 15 % by weight of an inorganic alkaline compou...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JEONG, YONG-MAN, KIM, WOONG, BYEON, WON-SU, JUNG, NAKIL, LIM, CHOUL-KYU, LEE, KWANG-YONG, CHA, HYUK-JIN
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Aqueous resist stripper composition capable of stripping a resist from a resist-coated substrate such as a color filter substrate or a TFT substrate is disclosed. The aqueous resist stripper composition according to the present invention includes 0.3 to 15 % by weight of an inorganic alkaline compound; 0.1 to 12 % by weight of a tetraalkylammonium hydroxide compound; 0.1 to 40 % by weight of a water-soluble organic solvent; and 33 to 99.5 % by weight of water, based on a total weight of the composition. The aqueous resist stripper composition according to the present invention may be useful to easily and simply remove a variety of resists which are generated during the process of manufacturing TFT-LCD but not easily removed by the con¬ ventional methods, as well as to minimize corrosions of a lower metal layer and a glass substrate during the stripping process, maximize a replacement cycle of the stripper due to its low loss by evaporation and its low aging, and regenerate the color substrate and the TFT substrate at a large scale. L'invention concerne une composition de décapage de résist aqueuse pouvant décaper un résist d'un substrat revêtu de résist, tel qu'un substrat à filtre de couleur ou un substrat de TFT. La composition de décapage de résist aqueuse de l'invention comprend 0,3 à 15 % en poids d'un composé alcalin inorganique ; 0,1 à 12 % en poids d'un composé hydroxyde de tétraalkylammonium ; 0,1 à 40 % en poids d'un solvant organique hydrosoluble ; et 33 à 99,5 % en poids d'eau, par rapport au poids total de la composition. La composition de décapage de résist aqueuse de l'invention peut être utile pour supprimer facilement et simplement plusieurs résists qui sont générés pendant le procédé de fabrication de TFT-LCD mais qui ne sont pas faciles à enlever par des méthodes classiques, et pour minimiser la corrosion d'une couche de métal inférieure et d'un substrat de verre pendant le procédé de décapage, pour maximiser le cycle de remplacement du décapeur du fait de sa faible perte par évaporation et de son faible vieillissement, et pour régénérer le substrat de couleur et le substrat de TFT à une grande échelle.