A METHOD FOR PROVIDING ALIGNMENT OF A PROBE
A method for providing alignment of a probe relative to a supporting substrate, comprises the steps of providing the supporting substrate defining a planar surface and an edge, the substrate further defining a first crystal plane, providing a first mask at the surface of the supporting substrate, th...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | A method for providing alignment of a probe relative to a supporting substrate, comprises the steps of providing the supporting substrate defining a planar surface and an edge, the substrate further defining a first crystal plane, providing a first mask at the surface of the supporting substrate, the first mask defining a first exposed area on the surface at the edge, and providing a specific etch reagent, a recess formed by the etch reagent etching the first exposed area, the recess defining a first sidewall an opposing second sidewall, an end wall remote from the edge, and a bottom wall. The method further comprises providing a probe substrate defining a planar surface and a second crystal plane identical to the first crystal plane and positioning the probe substrate so that the first and the second crystal planes are positioned identically when forming the probe from the probe substrate using the specific etch reagent, the probe defines congruent surfaces to the first sidewall and the second sidewall.
L'invention concerne un procédé d'alignement d'une sonde par rapport à un substrat de support. Ledit procédé consiste à former un substrat de support définissant une surface plane et un bord, ainsi qu'un premier plan cristallisé, à former un premier masque à la surface du substrat de support, le premier masque définissant une première zone exposée en surface au niveau du bord, et à utiliser un réactif d'attaque spécifique. Une cavité formée par le réactif d'attaque décape la première zone exposée, la cavité définissant une première paroi latérale, une seconde paroi latérale opposée, une paroi d'extrémité éloignée du bord, et un fond. Le procédé consiste également à utiliser un substrat de sonde définissant une surface plane et un second plan cristallisé identique au premier plan cristallisé, et à positionner le substrat de sonde de façon que le premier et le second plan de sonde soient positionnés de manière identique lors de la formation de la sonde à partir du substrat de sonde à l'aide du réactif d'attaque spécifique. La sonde définit des surfaces congruentes par rapport à la première paroi latérale et à la seconde paroi latérale. |
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