NEGATIVE ACTING PHOTORESIST WITH IMPROVED BLOCKING RESISTANCE

Novel compositions comprising photoactive urethane acrylate resins and an ethylenically unsaturated reactive diluent are disclosed. The urethane acrylate resin comprises the reaction product of a polyhydric acrylate monomer and an isocyanurate. The compositions find particular application in negativ...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OLSON, KEVIN C, ZIEGLER, MICHAEL J, CAMPBELL, RANDAL L
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Novel compositions comprising photoactive urethane acrylate resins and an ethylenically unsaturated reactive diluent are disclosed. The urethane acrylate resin comprises the reaction product of a polyhydric acrylate monomer and an isocyanurate. The compositions find particular application in negative photoresist compositions and exhibit improved blocking resistance compared with other negative photoresist compositions. Methods for using the compositions are also disclosed. La présente invention concerne de nouvelles compositions comprenant des résines acrylate d'uréthane photoactives et un diluant réactif non saturé par l'éthylène. La résine acrylate d'uréthane comprend le produit de réaction d'un monomère d'acrylate polyhydrique et d'un isocyanurate. Les compositions selon l'invention peuvent être tout particulièrement utilisées dans des compositions de photorésine négative et présentent une meilleure résistance à l'adhérence comparativement à d'autres compositions de photorésine négative. Des procédés d'utilisation de ces compositions sont également présentés.