A VIBRATION DAMPER OR ISOLATOR

A system for use in for example the production of semiconductors comprises a chamber (10) having a sealed inner space (11), such as a vacuum chamber. A heavy mass (14), such as a table, is arranged within the vacuum chamber and is supported or carried by one or more vibration dampers or isolators (15). Each vibration isolator comprises a hollow or tubular member (18) having an open inner end portion, which extends into the sealed space of the chamber (10). A support structure (21) is arranged at the inner end of the hollow member for supporting the mass or table (14). The opposite ends of a bellows (24) are sealingly connected to the hollow member (18) and the support structure (21), respectively, so as to seal the inner space (26) of the hollow member (18) from the inner space (11) of the chamber (10). A surface part of the support structure is exposed to a to a gas pressure different from that of the sealed inner space of the chamber, so as to at least partly balance the weight of the support structure (21) and the mass or payload (14) supported thereby. L'invention concerne un système destiné, par exemple, à la fabrication de semi-conducteurs, qui comprend une chambre (10) comportant un espace interne étanchéifié (11) tel qu'une chambre à vide. Une masse lourde (14) telle qu'une table est ménagée à l'intérieur de la chambre à vide et est supportée ou transportée sur un ou plusieurs amortisseurs ou isolateurs des vibrations (15). Chaque isolateur des vibrations comprend un élément creux ou tubulaire (18) comportant une partie ouverte d'extrémité interne qui se prolonge jusque dans l'espace étanchéifié de la chambre (10). Une structure de support (21) est ménagée à l'extrémité interne de l'élément creux de manière à supporter la masse ou la table (14). Les extrémités opposées d'un soufflet (24) sont raccordées étanches à l'élément creux et à la structure de support (21), respectivement, de manière à étanchéifier l'espace interne (26) de l'élément creux (18) en l'isolant de l'espace interne (11) de la chambre (10). Une partie de surface de la structure de support est exposée à une pression de gaz différente de celle de l'espace interne de la chambre, de manière à équilibrer au moins partiellement le poids de la structure de support (21) et la masse ou la charge utile (14) qu'elle supporte.