SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE
This invention relates to a semiconductor device (105) and a method of manufacturing this device. A preferred embodiment of the invention is a semiconductor device (105) comprising a silicon semiconductor substrate (110), an oxide layer (115) and an active layer (120). In the active layer, insulatin...
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Hauptverfasser: | , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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