LASER MULTIPLEXING

A laser multiplexing system and method for use with high power pulsed lasers in Extreme Ultraviolet Lithography. In a first embodiment, a high power EUV laser multiplexing element (200) for laser produced plasma generation comprises a compound lens comprising at least two focusing elements (210) arrange to focus at least two respective laser beams (208) to a focal point (204) on a common workpiece. In a second embodiment, a laser multiplexing apparatus comprises at least two pulsed laser sources for generating pulsed laser beams and a temporal multiplexing element (302) arranged to temporally interleave at least two pulsed laser beams (300). In a third embodiment, laser multiplexing assembly comprises a beam shaping element (401) in which the beam shaping element is arranged to direct a first laser beam (406a) along an axis common with a second laser beam (406b) axis onto a common focussing element (405) arranges about said common axis. L'invention concerne un système et un procédé de multiplexage laser, destinés à s'utiliser avec des lasers à impulsions grande puissance dans le domaine de la lithographie en ultraviolet extrême (EUV). Dans un premier mode de réalisation, un élément de multiplexage laser EUV grande puissance (200), destiné à la génération du plasma par laser, comprend une lentille composite comprenant au moins deux éléments de focalisation (210) ménagés pour focaliser au moins deux faisceaux laser respectifs (208) dans un point focal (204) sur une pièce à traiter commune. Dans un deuxième mode de réalisation, un appareil à multiplexage laser comprend au moins deux sources à laser pulsé destinées à générer des faisceaux laser pulsés et un élément de multiplexage temporel (302) ménagé pour entrelacer au plan temporel au moins deux faisceaux laser pulsé (300). Dans un troisième mode de réalisation, un appareil à multiplexage laser comprend un élément de conformation de faisceau (401) dans lequel un élément de conformation de faisceau est disposé de manière à diriger un premier faisceau laser (406a) le long d'un axe commun avec un deuxième faisceau laser (406b) sur un élément de focalisation commun (405), disposés autour du même axe commun.