INTEGRATED THIN-FILM SOLAR CELL AND ITS MANUFACTURING METHOD

The problem is to prevent a metal needle from damaging a substrate in mechanical patterning. A thin film is formed of a substrate (2), a back-face electrode layer (3), and a multinary compound semiconductor thin film (light-absorption layer) (5), a transparent high-resistance buffer layer (6), and a transparent conductive window layer (7) layered in this order. The thin film is split into unit cells. The cells are connected in series to generate a predetermined voltage. There are three patterning: a patterning (P1) for splitting the back-surface electrode layer (3); a patterning (P2) for splitting the light absorption layer (5) alone or both the absorption layer and the buffer layer (6); and a patterning (P3) for splitting the window layer (7) through to the light absorption layer (5). When, in the patternings (P2, P3), a groove is formed by mechanically removing each constituent thin-film layer with the use of a metal needle, an ultrathin-film layer (4) is secondarily produced on the surface of the back-face electrode layer (3) by the reaction with chalcogen in a light-absorption layer formation step. This ultrathin-film layer is used as a solid lubricant. L'invention a pour but d'empêcher un substrat d'être endommagé par une aiguille métallique lors d'une formation mécanique de motifs. Un film mince comprend un substrat (2), une couche électrode sur la face arrière (3), et un film mince semi-conducteur à composé multinaire (couche d'absorption de la lumière) (5), une couche tampon haute résistance transparente (6), et une couche fenêtre conductrice transparente (7) appliquées dans cet ordre. Le film mince est fragmenté en cellules unitaires. Les cellules sont connectées en série en vue de générer une tension prédéterminée. Il est prévu trois formations de motifs : une formation de motifs (P1) pour la fragmentation de la couche électrode sur la face arrière (3) ; une formation de motifs (P2) pour la fragmentation de la couche d'absorption de la lumière (5) seule, ou de la couche d'absorption et de la couche tampon (6) ; et une formation de motifs (P3) pour la fragmentation de la couche fenêtre (7) à travers la couche d'absorption de la lumière (5). Lorsque, lors des formations des motifs (P2, P3), une rainure est formée par enlèvement mécanique, au moyen d'une aiguille métallique, de chaque couche constituante à film mince, une couche de film ultramince (4) est produite en second lieu sur la surface de la couche électrode face arrière (3) par réaction ave