IMPRINT LITHOGRAPHY TEMPLATES HAVING ALIGNMENT MARKS

One embodiment of the present invention is an imprint template for imprint lithography that comprises alignment marks embedded in bulk material of the imprint template. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un modèle d'impression pour la lithographie d'impression, qui comp...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	EKERDT, JOHN G, SMITH, BRITAIN J, CHOI, BYUNG J, BAILEY, TODD C, COLBURN, MATTHEW E, SREENIVASAN, SIDLGATA V, WILLSON, CARLTON G, JOHNSON, STEPHEN C
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	One embodiment of the present invention is an imprint template for imprint lithography that comprises alignment marks embedded in bulk material of the imprint template. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un modèle d'impression pour la lithographie d'impression, qui comprend des repères d'alignement enrobés dans le matériau en vrac du modèle d'impression.