APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA TREATING A SUBSTRATE

Apparatus is provided for plasma treating a substrate. This has a chamber (2) and a plasma generator (4) which forms a plasma from one or more gases flowing within the chamber so as to produce one or more species for interacting with a substrate (8) placed within the chamber. A guide (12) is provided for directing the gas flow containing the species towards the substrate (8). When in use, the width of the plasma is greater than that of the substrate by an amount defining an outer region of plasma. The guide is adapted to direct the species from at least substantially all of the outer region of the plasma towards the substrate. A corresponding method of plasma treatment is also disclosed. L'invention concerne un appareil de traitement au plasma d'un substrat. L'appareil comprend une chambre (2) et un générateur (4) de plasma lequel forme du plasma à partir d'un ou de plusieurs gaz s'écoulant à l'intérieur de la chambre afin de produire une ou plusieurs espèces destinées à interagir avec un substrat (8) placé à l'intérieur de la chambre. Un guide (12) est prévu pour diriger le flux de gaz contenant lesdites espèces vers le substrat (8). Lors de l'utilisation, la largeur du plasma est supérieure à celle du substrat selon une mesure définissant une région extérieure de plasma. Le guide est conçu pour diriger les espèces à partir d'au moins sensiblement toute la région extérieure du plasma vers le substrat. L'invention concerne également un procédé correspondant de traitement au plasma.