IMPRINT LITHOGRAPHIC METHOD, AND DEVICE AND STAMP FOR USE IN IMPRINT LITHOGRAPHY

Bei einem Stempellithografieverfahren zur Erzeugung einer Struktur auf einem Substrat mit Hilfe mindestens eines Stempels hat der Stempel einen Stempelkörper mit einer dreidimensional strukturierten Stempeloberfläche zur Erzeugung eines dreidimensionalen Stempelabdruckes in einer auf dem Substrat angeordneten Schicht einer Prägesubstanz. Bei dem Verfahren wird ein erster Stempel in einer Arbeitsposition an einer Stempellithografievorrichtung bereitgestellt und es wird mit Hilfe des ersten Stempels mindestens ein Stempelabdruck in der Prägesubstanz erzeugt. Dann erfolgt ein automatisches Auswechseln des ersten Stempels mit Hilfe einer Stempelwechseleinrichtung aus der Arbeitsposition zur Behandlung des ersten Stempels außerhalb der Arbeitsposition und ein automatisches Einwechseln des ersten Stempels oder eines zweiten Stempels mit Hilfe der Stempelwechseleinrichtung in die Arbeitsposition. Die Behandlung kann eine Inspektion und/oder eine Reinigung von Stempeln umfassen, um einen störungsarmen Produktionsprozess mit hohem Durchsatz sicherzustellen. Disclosed is an imprint lithographic method for creating a structure on a substrate with the aid of at least one stamp that comprises a stamp member with a three-dimensionally structured surface for creating a three-dimensional imprint in a layer of an embossing substance, which is arranged on the substrate. According to the inventive method, a first stamp is supplied in an operating position on an imprint lithographic device, and at least one imprint is created in the embossing substance by means of the first stamp. The first stamp is then automatically removed from the operating position by means of a stamp replacement mechanism so as to treat said stamp outside the operating position, and the first stamp or a second stamp is automatically placed in the operating position with the aid of the stamp replacement mechanism. The treatment may comprise inspection and/or cleaning of stamps in order to ensure an almost trouble-free production process at a high output. La présente invention concerne un procédé de lithographie de marquage permettant de produire une structure sur un substrat, à l'aide d'au moins un poinçon. Ledit poinçon comprend un corps de poinçon qui présente une surface de poinçon tridimensionnelle structurée, permettant de ménager une empreinte de poinçon tridimensionnelle dans une couche d'une substance d'impression située sur un substrat. Ce procédé consiste à mettre un premier poinçon dans une po