A METHOD AND APPARATUS FOR MAKING A LAYER OF COATING MATERIAL ON A TAPE SUBSTRATE, IN PARTICULAR FOR MAKING SUPERCONDUCTIVE TAPES
Provided herein are a method and an apparatus (1) for making a layer (2) of coating material (3) on a tape substrate (4), in particular for making superconductive tapes. A precursor (12) of the coating material (3) is evaporated so as to form an evaporation area (13), and the substrate (4) is carrie...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Provided herein are a method and an apparatus (1) for making a layer (2) of coating material (3) on a tape substrate (4), in particular for making superconductive tapes. A precursor (12) of the coating material (3) is evaporated so as to form an evaporation area (13), and the substrate (4) is carried through the evaporation area (13) to enable deposition of the evaporated coating material (3) on one face (17) of the substrate (4); the substrate (4) is carried through the evaporation area (13) along a curved path (60), in particular with a stretch (27) wound on a rotating carousel (25), in such a way that the deposition of the coating material (3) to form the layer (2) will be performed on a non-planar portion (16) of the substrate (4).
Procédé et appareil (1) de formation d'une couche (2) d'une matière de revêtement (3) sur un substrat en bande (4), en particulier pour la fabrication de bandes supraconductrices. Un précurseur (12) de la matière de revêtement (3) est évaporé en vue de former une zone d'évaporation (13) et le substrat (4) est acheminé à travers la zone d'évaporation (13) pour permettre le dépôt de la matière de revêtement évaporée (3) sur une face (17) du substrat (4). Le substrat (4) est acheminé à travers la zone d'évaporation (13) sur une trajectoire courbe (60), en particulier avec une longueur (27) enroulée sur un carrousel rotatif (25) de sorte que le dépôt de la matière de revêtement (3), en vue de former la couche (2), s'effectuera sur une partie non plane (16) du substrat (4). |
---|