IMMERSION MEDIUM BUBBLE ELIMINATION IN IMMERSION LITHOGRAPHY

A method of operating an immersion lithography system (26), including steps of immersing at least a portion of a wafer (12) to be exposed in an immersion medium (24), wherein the immersion medium comprises at least one bubble (28); directing an ultrasonic wave (36) through at least a portion of the...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	AMBLARD, GILLES, R, SCHEFSKE, JEFFREY, A, PAWLOSKI, ADAM, R, ADO, AMR, Y, LAFONTAINE, BRUNO, M, TABERY, CYRUS, E, LEVINSON, HARRY, J, LALOVIC, IVAN, TSAI, FRANK
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method of operating an immersion lithography system (26), including steps of immersing at least a portion of a wafer (12) to be exposed in an immersion medium (24), wherein the immersion medium comprises at least one bubble (28); directing an ultrasonic wave (36) through at least a portion of the immersion medium to disrupt and/or dissipate the at least one bubble; and exposing the wafer with an exposure pattern (22) by passing electromagnetic radiation through the immersion medium subsequent to the directing. Also disclosed is a monitoring and control system (30, 32, 34) for an immersion lithography system (26). L'invention concerne un procédé d'exploitation d'un système de lithographie par immersion (26), qui consiste à: immerger au moins une partie d'une plaquette (12) à exposer dans un milieu d'immersion (24) contenant au moins une bulle (28); diriger des ultrasons (36) sur au moins une partie du milieu d'immersion pour faire éclater et/ou dissiper la bulle; et enfin, exposer la plaquette avec un motif d'exposition (22) en soumettant le milieu d'immersion à un rayonnement électromagnétique. Par ailleurs, l'invention décrit un système de surveillance et de contrôle (30, 32, 34) destiné à un système de lithographie par immersion (26).