FACET MIRRORS AND A METHOD FOR PRODUCING MIRROR FACETS

In a method for producing mirror facets (1) for facet mirrors in illuminating devices or projection exposure machines in microlithography by using radiation in the extreme ultraviolet range, individual tilting angles are recessed into an optical surface (2) of the mirror facet (1), preferably a surf...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	ROMEYN, GERHARD, HEISLER, ANDREAS, MANN, HEINZ, MELZER, FRANK, SEIFERT, ANDREAS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	In a method for producing mirror facets (1) for facet mirrors in illuminating devices or projection exposure machines in microlithography by using radiation in the extreme ultraviolet range, individual tilting angles are recessed into an optical surface (2) of the mirror facet (1), preferably a surface with tilting angles relative to a reference surface of the mirror facet (1) is machined into or on said optical surface. La présente invention a trait à un procédé de production de facettes de miroir (1) pour des miroirs à facettes dans des dispositifs d'éclairage ou des machines d'exposition de projection en microlithographie au moyen de rayonnement dans la gamme d'ultraviolet extrême, comprenant l'entaillage d'angles d'inclinaison individuels dans une surface optique (2) d'une facette de miroir (1), de préférence l'usinage d'une surface avec des angles d'inclinaison par rapport à une surface de référence de la facette de miroir (1) dans ou sur ladite surface optique.